AlCu Sputtering Target High Purity lancip Film PVD Coating Custom Made

Aluminium Tembaga sputtering target sampurna kanggo sawetara industri lan aplikasi, amarga atose dhuwur, kekuatan tensile lan bobot entheng.Biasane isi tembaga 1-3% lan nduweni sifat kimia sing padha karo Aluminium.AlCu nduweni sifat mekanik sing dhuwur, kemampuan mesin sing apik, lan kesesuaian suhu dhuwur, saengga bisa dadi bahan sing cocog kanggo paduan Aluminium kinerja dhuwur.Target sputtering alloy AlCu kanthi kemurnian dhuwur bisa digunakake ing macem-macem lapangan industri saka semikonduktor lan komponen fungsional elektronik.

Bahan Khusus Sugih spesialisasi ing Pabrik Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Kromium Aluminium miturut spesifikasi Pelanggan.Produk kita nduweni sifat mekanik sing apik banget, struktur homogen, permukaan sing polesan tanpa segregasi, pori, utawa retak.Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.