Sugeng rawuh ing situs web kita!

CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Tipis Film PVD Coating Custom Made

Kromium Aluminium Kab

Katrangan singkat:

Babagan

Paduan Sputtering Target

Formula Kimia

CrAl

Komposisi

Kromium Aluminium Kab

Kemurnian

99,7%, 99,9%, 99,95%, 99,99%

wangun

Piring, Target Kolom, katoda busur, Digawe khusus

Proses Produksi

Leleh vakum, PM

Ukuran kasedhiya

L≤2000mm, W≤200mm


Detail Produk

Tag produk

Fabrikasi Target Sputtering Chromium Aluminium kalebu langkah-langkah ing ngisor iki:

1. Powder grinding lan nyawiji.

2. Perawatan pencet isostatik panas kanggo entuk produk semi-rampung.

3. Machining krom aluminium alloy sputtering materi target atos kanggo njupuk kromium aluminium alloy sputtering materi target.

Sajrone proses deposisi target sputtering CrAl, lapisan Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) sing keras dibentuk.Lapisan iki nuduhake sifat kekerasan lan tahan oksidasi sing dhuwur sanajan ing suhu dhuwur.Pemotong bisa mlaku ing feed dhuwur kanggo nambah produktivitas lan ningkatake kualitas nalika nggunakake mesin CNC.

Target AlCr khas kita lan sifate

Cr-70Aling%

Cr-60Aling%

Cr-50Aling%

Kemurnian (%)

99.8/99.9/99.95

99.8/99.9/99.95

99.8/99.9/99.95

Kapadhetan(g/cm3

3.7

4.35

4.55

Gudan Ukuran(µm)

100/50

100/50

100/50

Proses

HIP

HIP

HIP

Bahan Khusus Sugih spesialisasi ing Pabrik Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Kromium Aluminium miturut spesifikasi Pelanggan.Produk kita nduweni sifat mekanik sing apik, struktur homogen, permukaan sing polesan tanpa pamisahan, pori utawa retak.Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.


  • Sadurunge:
  • Sabanjure: