Sugeng rawuh ing situs web kita!

FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Iron Kobalt Tantalum

Katrangan singkat:

Babagan

Paduan Sputtering Target

Formula Kimia

FeCoTa

Komposisi

Iron Kobalt Tantalum

Kemurnian

99,9%, 99,95%, 99,99%

wangun

Piring, Target Kolom, katoda busur, Digawe khusus

Proses Produksi

Leleh vakum, PM

Ukuran kasedhiya

L≤200mm, W≤200mm


Detail Produk

Tag produk

Target Iron Cobalt Tantalum biasane kasedhiya ing wangun bunder lan bahan film tipis kritis saka media rekaman magnetik vertikal.Jumlah owahan saka Tantalum ana ing alloy bakal kasil pamisahan lan saiki partikel undissolved.Kita nggunakake cara produksi unik sing bisa njamin homogeneitas struktur mikro lan nambah sifat mekanik bahan kasebut.

jeneng produk

FeCoTa

Fe/wt%

imbangan

imbangan

imbangan

Co/wt%

21.6±0.5

21.9±0.5

20.2±0.5

Ta/wt%

41.1±0.8

39.4±0.8

44.3±0.8

Kandungan pengotor logam(ppm)

Ni

≤100

≤100

≤100

Al

≤300

≤300

≤300

Si

≤200

≤200

≤200

Kandungan pengotor gas(ppm)

C

≤200

≤200

≤200

N

≤100

≤100

≤100

O

≤600

≤600

≤600

S

≤75

≤75

≤75

Bahan Khusus Sugih spesialisasi ing Pabrik Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Tantalum Kobalt Besi miturut spesifikasi Pelanggan.Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.


  • Sadurunge:
  • Sabanjure: