Sugeng rawuh ing situs web kita!

NiAl Sputtering Target High Purity Tipis Film Pvd Coating Custom Made

Nikel Aluminium

Katrangan singkat:

Babagan

Paduan Sputtering Target

Formula Kimia

NiAl

Komposisi

Nikel Aluminium

Kemurnian

99,9%, 99,95%, 99,99%

wangun

Piring, Target Kolom, katoda busur, Digawe khusus

Proses Produksi

Leleh vakum

Ukuran kasedhiya

L≤200mm, W≤200mm


Detail Produk

Tag produk

Nikel Aluminium alloy sputtering target diprodhuksi kanthi cara leleh vakum lan metalurgi daya.Nyawiji Aluminium lan Nikel ing jumlah perlu kanggo nyedhiyani ingot casting NiAl.Ingot casting banjur dipotong kanggo mbentuk wangun target sing dikarepake.Wis konsistensi dhuwur, ukuran gandum olahan lan microstructure homogen, tanpa gas puff utawa pori.

Amarga kombinasi bahan lapisan lan substrat sing apik, lapisan NiAl nduweni kinerja apik ing 700 ℃.Saiki target sputtering NiAl akeh digunakake ing lapisan tahan nyandhang, kalebu alat pemotong, cetakan, otomotif lan industri konstruksi.

Bahan Khusus Sugih minangka Produsen Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Nikel Aluminium miturut spesifikasi Pelanggan.Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.


  • Sadurunge:
  • Sabanjure: