TaNb Sputtering Target High Purity Tipis Film Pvd Coating Custom Made
Tantalum Niobium
Tantalum Niobium Sputtering Target Description
Target sputtering Tantalum Niobium digawe kanthi cara peleburan vakum Tantalum lan Niobium.Iki loro titik leleh dhuwur (Tantalum 2996 ℃, Niobium 2468 ℃), titik didih dhuwur (Tantalum 5427 ℃, Niobium 5127 ℃) logam langka.Tantalum Niobium alloy nduweni tampilan sing padha karo baja, nduweni lustre abu-abu salaka (nalika bubuk abu-abu peteng).Nduwe akeh sifat sing nguntungake: tahan korosi, superkonduktivitas, lan kekuatan suhu dhuwur.Dadi aplikasi utawa industri apa wae bisa entuk manfaat saka nggunakake campuran Tantalum Niobium, kayata elektronik, kaca & optik, aerospace, piranti medis, superkonduktivitas lan baja.
Tantalum lan Niobium wis wigati ing industri angkasa kanggo taun amarga kekuatan nyengsemaken, resistance karat lan fitur atraktif liyane, lan wis digunakake ing akeh komponen penting kaya mesin roket lan muncung.
Tantalum Niobium Sputtering Target Packaging
Target sputter TaNb kita kanthi jelas diwenehi tandha lan label eksternal kanggo mesthekake identifikasi lan kontrol kualitas sing efisien.Ati-ati banget kanggo ngindhari karusakan sing bisa disebabake sajrone panyimpenan utawa transportasi.
Entuk Kontak
Target sputtering Tantalum Niobium RSM yaiku kemurnian lan seragam sing dhuwur banget.Padha kasedhiya ing macem-macem formulir, kemurnian, ukuran, lan rega.We spesialis ing prodhuksi bahan lapisan film tipis kemurnian dhuwur kanthi kinerja banget uga Kapadhetan paling dhuwur lan ukuran gandum rata-rata paling cilik kanggo digunakake ing lapisan cetakan, dekorasi, bagean mobil, kaca low-E, sirkuit terpadu semi-konduktor, film tipis. resistance, tampilan grafis, aerospace, rekaman Magnetik, layar tutul, film tipis baterei solar lan aplikasi deposition uap fisik (PVD) liyane.Mangga ngirim priksaan kanggo rega saiki ing sputtering target lan bahan deposisi liyane ora kadhaptar.
