Cr Sputtering Target High Purity lancip Film PVD Coating Custom Made
Kromium
Video
Deskripsi Target Vanadium Sputtering
Kromium minangka logam atos, keperakan kanthi warna biru.Kromium murni nduweni daktilitas lan kekerasan sing apik.Kapadhetan 7,20g / cm3, titik lebur 1907 ℃ lan titik didih 2671 ℃.Kromium nduweni resistensi korosi sing dhuwur banget lan tingkat oksidasi sing sithik sanajan ing suhu dhuwur.Logam Chromium digawe liwat proses aluminothermic saka chrome oxide utawa proses elektrolitik nggunakake ferrochromium utawa asam kromat.
Target sputtering Chromium kemurnian dhuwur bisa digunakake kanggo aplikasi umum.Lapisan sing disimpen dening target Chromium nuduhake kekuwatan gedhe lan prilaku tahan nyandhang.
Kita bisa nyedhiyakake Chromium ing macem-macem kemurnian
| Purity | Ikemurnian (ppm) ≤ | ||||||
| Fe | Si | Al | C | N | O | S | |
| 99.2 | 3000 | 2500 | 2000 | 200 | 500 | 2000 | 100 |
| 99.5 | 2000 | 2000 | 1200 | 200 | 500 | 1500 | 100 |
| 99.7 | 1200 | 1000 | 1000 | 200 | 300 | 1200 | 100 |
| 99.8 | 1000 | 800 | 600 | 200 | 200 | 1000 | 100 |
| 99.9 | 500 | 200 | 300 | 150 | 100 | 500 | 50 |
| 99.95 | 200 | 100 | 100 | 100 | 100 | 300 | 50 |
Aplikasi Target Sputtering Chromium
Target sputter kromium digunakake ing akeh aplikasi vakum kayata lapisan kaca otomotif, pabrik sel fotovoltaik, pabrikan baterei, sel bahan bakar, lan lapisan dekoratif lan tahan karat.Target sputtering kromium digunakake kanggo CD-ROM, dekorasi deposisi film tipis, tampilan panel datar, lapisan fungsional kaya industri ruang panyimpenan informasi optik liyane, lsp.
Kemasan Target Sputtering Chromium
Target sputter kromium kita kanthi jelas diwenehi tandha lan label eksternal kanggo mesthekake identifikasi lan kontrol kualitas sing efisien.Ati-ati banget kanggo ngindhari karusakan sing bisa disebabake sajrone panyimpenan utawa transportasi.
Entuk Kontak
Target sputtering Chromium RSM yaiku kemurnian lan seragam sing dhuwur banget.Padha kasedhiya ing macem-macem formulir, kemurnian, ukuran, lan rega.We spesialis ing prodhuksi bahan lapisan film tipis kemurnian dhuwur kanthi kinerja banget uga Kapadhetan paling dhuwur lan ukuran gandum rata-rata paling cilik kanggo digunakake ing lapisan cetakan, dekorasi, bagean mobil, kaca low-E, sirkuit terpadu semi-konduktor, film tipis. resistance, tampilan grafis, aerospace, rekaman Magnetik, layar tutul, film tipis baterei solar lan aplikasi deposition uap fisik (PVD) liyane.Mangga ngirim priksaan kanggo rega saiki ing sputtering target lan bahan deposisi liyane ora kadhaptar.
