Kaluwihan saka silinder lan planar magnetron sputtering target

Konsultan teknis RSM bakal nuduhake kaluwihan target sputtering magnetron silinder lan planar?Dibandhingake karo target sputtering magnetron liyane, target sputtering magnetron silinder lan planar makaryakke kaluwihan saka uniformity nutupi apik saka target planar persegi dowo, lan bisa nggedhekake pemanfaatan target liwat rong cara ing ngisor iki:

(1) Nalika rong klompok (papat) pit annular ing permukaan target tekan ambane tartamtu, target inti (bagian magnet) bisa diputer 45 ° relatif kanggo tabung target, supaya wilayah liyane ing tabung target sing durung corroded bisa digunakake;

(2) Nalika target inti saka silinder lan planar magnetron sputtering target dirancang minangka inti target puteran (inti target puteran sak sputtering), lumahing target bisa roto-roto sputtered mati lapisan dening lapisan tanpa pit.Ing wektu iki, target bakal digunakake paling èfèktif, lan tingkat pemanfaatan target bisa tekan 50% ~ 60% Nalika materi target logam larang regane, iki temenan pinunjul gedhe.

Kanthi nggunakake prinsip magnet karo sepatu kutub ing target sputtering magnetron silinder coaxial kanggo ngatasi masalah medan magnet pungkasan, target bidang persegi panjang bisa diowahi dadi target sputtering magnetron silinder lan planar, Target bisa nggedhekake tingkat pemanfaatan target nalika njaga uniformity lapisan apik saka target bidang persegi dowo Supaya kanggo nambah keuntungan ekonomi.