Kaya sing wis dingerteni, ana akeh spesifikasi target sputtering, lan lapangan aplikasi uga amba banget.Jinis target sing umum digunakake ing macem-macem lapangan uga beda.Dina iki, ayo sinau babagan klasifikasi lapangan aplikasi target sputtering karo editor RSM!
1. Definisi sputtering target
Sputtering minangka salah sawijining teknologi utama kanggo nyiapake bahan film tipis.Iki nggunakake ion sing diasilake dening sumber ion kanggo nyepetake lan nglumpukake ing vakum kanggo mbentuk sinar ion kanthi kecepatan dhuwur, ngebom permukaan sing padhet, lan ion-ion ijol-ijolan energi kinetik karo atom ing permukaan sing padhet, supaya atom-atom ing padhet. permukaan dipisahake saka padhet lan disimpen ing permukaan substrat.Bahan padhet sing dibombardir yaiku bahan mentah kanggo nyiapake film tipis sing disimpen kanthi sputtering, sing diarani target sputtering.
2. Klasifikasi lapangan aplikasi target sputtering
1. Target semikonduktor
(1) Sasaran umum: target umum ing lapangan iki kalebu logam titik leleh dhuwur kayata tantalum / tembaga / titanium / aluminium / emas / nikel.
(2) Dianggo: utamané digunakake minangka bahan baku utama kanggo sirkuit terpadu.
(3) Persyaratan kinerja: syarat teknis sing dhuwur kanggo kemurnian, ukuran, integrasi, lsp.
2. Target kanggo tampilan panel warata
(1) Target umum: target umum ing lapangan iki kalebu aluminium / tembaga / molibdenum / nikel / Niobium / silikon / kromium, lsp.
(2) Dianggo: target jenis iki biasane digunakake kanggo macem-macem jinis film area gedhe kayata TV lan notebook.
(3) syarat kinerja: syarat dhuwur kanggo kemurnian, area gedhe, uniformity, etc.
3. materi target kanggo sel solar
(1) Target umum: aluminium / tembaga / molybdenum / kromium / ITO / Ta lan target liyane kanggo sel surya.
(2) Dianggo: utamané digunakake ing "lapisan jendhela", lapisan alangi, elektroda lan film konduktif.
(3) Persyaratan kinerja: syarat teknis sing dhuwur lan sawetara aplikasi sing wiyar.
4. Target kanggo panyimpenan informasi
(1) Target umum: target umum kobalt / nikel / ferroalloy / kromium / tellurium / selenium lan bahan liyane kanggo panyimpenan informasi.
(2) Dianggo: materi target jenis iki utamané digunakake kanggo sirah Magnetik, lapisan tengah lan lapisan ngisor drive optik lan disk optik.
(3) Persyaratan kinerja: Kapadhetan panyimpenan dhuwur lan kacepetan transmisi sing dhuwur dibutuhake.
5. Target kanggo modifikasi alat
(1) Target umum: target umum kayata titanium / zirconium / kromium aluminium alloy sing diowahi kanthi alat.
(2) Dianggo: biasane digunakake kanggo ngiyataken lumahing.
(3) Syarat kinerja: syarat kinerja dhuwur lan umur layanan sing dawa.
6. Sasaran kanggo piranti elektronik
(1) Target umum: paduan aluminium umum / target silicide kanggo piranti elektronik
(2) Tujuan: umume digunakake kanggo resistor film tipis lan kapasitor.
(3) syarat kinerja: ukuran cilik, stabilitas, koefisien suhu resistance kurang
Wektu kirim: Jul-27-2022