Rich Special Material Co., Ltd. bisa ngasilake target sputtering aluminium kemurnian dhuwur, target sputtering tembaga, target sputtering tantalum, target sputtering titanium, lan liya-liyane kanggo industri semikonduktor.
Kripik semikonduktor duwe syarat teknis sing dhuwur lan rega dhuwur kanggo target sputtering.Keperluan kanggo kemurnian lan teknologi target sputtering luwih dhuwur tinimbang tampilan panel datar, sel surya lan aplikasi liyane.Kripik semikonduktor nyetel standar sing ketat banget babagan kemurnian lan struktur mikro internal target sputtering.Yen isi impurity target sputtering dhuwur banget, film sing dibentuk ora bisa nyukupi sifat listrik sing dibutuhake.Ing proses sputtering, iku gampang kanggo mbentuk partikel ing wafer, asil ing short circuit utawa karusakan sirkuit, kang akeh mengaruhi kinerja film.Umumé, target sputtering kemurnian paling dhuwur dibutuhake kanggo manufaktur chip, sing biasane 99,9995% (5N5) utawa luwih dhuwur.
Target sputtering digunakake kanggo nggawe lapisan penghalang lan lapisan kabel logam kemasan.Ing proses manufaktur wafer, target utamane digunakake kanggo nggawe lapisan konduktif, lapisan penghalang lan kothak logam wafer.Ing proses kemasan chip, target sputtering digunakake kanggo ngasilake lapisan logam, lapisan kabel lan bahan logam liyane ing sangisore benjolan.Sanajan jumlah bahan target sing digunakake ing manufaktur wafer lan kemasan chip cilik, miturut statistik SEMI, biaya bahan target ing manufaktur wafer lan proses kemasan kira-kira 3%.Nanging, kualitas target sputtering langsung mengaruhi uniformity lan kinerja lapisan konduktif lan lapisan alangi, mangkono mengaruhi kacepetan transmisi lan stabilitas chip.Mulane, target sputtering minangka salah sawijining bahan mentah inti kanggo produksi semikonduktor
Wektu kirim: Nov-16-2022