Bahan khusus sugih Co., Ltd.Suppliy kemurnian dhuwur Zirconium Sputtering Target karo Kapadhetan sing paling dhuwur lan ukuran gandum rata-rata paling cilik bisa digunakake ing semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD) lan tampilan deposisi uap fisik (PVD) lan aplikasi optik.Target sputtering standar kanggo film tipis kasedhiya monoblock utawa diikat karo dimensi target planar lan konfigurasi nganti 820 mm kanthi lokasi pengeboran bolongan lan threading, beveling, grooves lan backing sing dirancang kanggo nggarap piranti sputtering lawas uga peralatan proses paling anyar, kayata lapisan area gedhe kanggo energi solar utawa sel bahan bakar lan aplikasi flip-chip.Target ukuran riset uga diprodhuksi uga ukuran khusus lan wesi.Kabeh target dianalisis nggunakake teknik sing paling apik, kalebu X-Ray Fluorescence (XRF).
Wektu kirim: Mei-03-2023