Babagan produk target, saiki pasar aplikasi saya akeh lan luwih akeh, nanging isih ana sawetara pangguna sing durung ngerti babagan panggunaan target kasebut, supaya para ahli saka Departemen teknologi RSM nggawe introduksi rinci babagan iki,
1. Mikroelektronika
Ing kabeh industri aplikasi, industri semikonduktor nduweni syarat sing paling nuntut kanggo kualitas film sputtering target.Wafer silikon 12 inci (300 epistaksis) saiki wis digawe.Jembaré interkonéksi suda.Produsen wafer silikon mbutuhake ukuran gedhe, kemurnian dhuwur, segregasi sing kurang lan gandum sing apik saka target, sing mbutuhake struktur mikro sing luwih apik saka target sing diprodhuksi.
2, tampilan
tampilan panel Flat (FPD) wis nemen impact tabung cathode-ray (CRT) -based monitor komputer lan pasar televisi liwat taun, lan uga bakal drive teknologi lan dikarepake pasar kanggo bahan target ITO.Ana rong jinis target iTO.Salah sijine yaiku nggunakake negara nanometer saka indium oxide lan bubuk timah oksida sawise sintering, liyane nggunakake target alloy timah indium.
3. Panyimpenan
Ing babagan teknologi panyimpenan, pangembangan hard disk kanthi kapadhetan dhuwur lan kapasitas gedhe mbutuhake akeh bahan film keengganan raksasa.Film komposit multilayer CoF~Cu minangka struktur film reluctance raksasa sing akeh digunakake.Bahan target paduan TbFeCo sing dibutuhake kanggo cakram magnet isih dikembangake.Cakram magnetik sing diprodhuksi nganggo TbFeCo nduweni karakteristik kapasitas panyimpenan gedhe, umur layanan sing dawa lan ora bisa dibusak tanpa kontak.
Pangembangan materi target:
Macem-macem jinis bahan film tipis sputtering wis akeh digunakake ing sirkuit terpadu semikonduktor (VLSI), disk optik, tampilan planar lan lapisan permukaan benda kerja.Wiwit taun 1990-an, pangembangan sinkron saka bahan target sputtering lan teknologi sputtering wis nyukupi kabutuhan pangembangan macem-macem komponen elektronik anyar.
Wektu kirim: Aug-08-2022