Mesthine saiki wis ngerti target, saiki target pasar uga mundhak, ing ngisor iki apa kinerja utama target sputtering sing dituduhake dening editor saka RSM.
Kemurnian
Kemurnian materi target minangka salah sawijining indeks kinerja utama, amarga kemurnian materi target nduweni pengaruh gedhe marang kinerja film tipis.Nanging, ing aplikasi praktis, syarat kemurnian bahan target ora padha.Contone, kanthi perkembangan industri mikroelektronik kanthi cepet, ukuran chip silikon wis dikembangake saka 6 ", 8" nganti 12", lan wiring wiring wis suda saka 0.5um dadi 0.25um, 0.18um utawa malah 0.13um.Sadurunge, kemurnian materi target 99.995% bisa nyukupi syarat proses 0.35umIC.Kemurnian materi target yaiku 99.999% utawa malah 99.9999% kanggo nyiapake garis 0.18um.
Isi najis
Kotoran ing padhet target lan oksigen lan uap banyu ing pori-pori minangka sumber polusi utama deposisi film.Bahan target kanggo macem-macem tujuan duwe syarat sing beda kanggo konten najis sing beda.Contone, target paduan aluminium lan aluminium murni sing digunakake ing industri semikonduktor duwe syarat khusus kanggo isi logam alkali lan unsur radioaktif.
Kapadhetan
Kanggo ngurangi porositas ing target ngalangi lan nambah kinerja film sputtering, Kapadhetan dhuwur saka target biasane dibutuhake.Kapadhetan target ora mung mengaruhi tingkat sputtering nanging uga sifat listrik lan optik film kasebut.Sing luwih dhuwur kapadhetan target, sing luwih apik kinerja film.Kajaba iku, nambah Kapadhetan lan kekuatan target ndadekake target luwih tahan tekanan termal ing proses sputtering.Kapadhetan uga minangka salah sawijining indeks kinerja utama target.
Ukuran gandum lan distribusi ukuran gandum
Sasaran biasane polikristalin kanthi ukuran gandum saka mikrometer nganti milimeter.Kanggo target sing padha, tingkat sputtering target kanthi biji cilik luwih cepet tinimbang target kanthi biji gedhe.Distribusi kekandelan film sing disimpen kanthi sputtering target kanthi beda ukuran gandum sing luwih cilik (distribusi seragam) luwih seragam.
Wektu kirim: Aug-04-2022