Bahan target Niobium utamane digunakake ing lapisan optik, lapisan bahan rekayasa permukaan, lan industri lapisan kayata tahan panas, tahan korosi, lan konduktivitas dhuwur.Ing lapangan lapisan optik, iku utamané Applied ing produk optik ophthalmic, lensa, optik tliti, nutupi area gedhe, lapisan 3D, lan aspèk liyane.
Bahan target niobium biasane diarani target kosong.Pisanan dilas menyang target bali tembaga, lan banjur dilebokake kanggo nyelehake atom niobium ing wangun oksida ing materi substrat, entuk lapisan sputtering.Kanthi deepening terus lan expansion saka teknologi target niobium lan aplikasi, syarat kanggo uniformity saka microstructure target niobium wis tambah, utamané dicethakaké ana ing telung aspèk: refinement ukuran gandum, ora orientasi tektur ketok, lan kemurnian kimia apik.
Distribusi seragam mikrostruktur lan properti ing saindenging target penting kanggo njamin kinerja sputtering bahan target niobium.Lumahing target niobium sing ditemoni ing produksi industri biasane nuduhake pola reguler, sing mengaruhi kinerja sputtering target.Kepiye carane bisa nambah tingkat panggunaan target?
Liwat riset, wis ditemokake yen isi impurity (target purity) minangka faktor penting sing mengaruhi kemurnian.Komposisi kimia saka bahan mentahan ora rata, lan impurities diperkaya.Sawise proses rolling mengko, pola biasa dibentuk ing permukaan materi target niobium;Ngilangi distribusi komponen bahan mentah sing ora rata lan pengayaan impurity bisa nyegah pembentukan pola reguler ing permukaan target niobium.Pengaruh ukuran gandum lan komposisi struktur ing materi target bisa meh diabaikan.
Wektu kirim: Jun-19-2023