Sawetara pelanggan takon babagan target sputtering silikon.Saiki, kolega saka Departemen Teknologi RSM bakal nganalisa target sputtering silikon kanggo sampeyan.
Target sputtering silikon digawe kanthi sputtering logam saka ingot silikon.Target bisa diprodhuksi kanthi macem-macem proses lan cara, kalebu electroplating, sputtering lan deposisi uap.Preferred embodiments luwih nyedhiyani reresik tambahan lan proses etching kanggo entuk kondisi lumahing dikarepake.Target sing diasilake banget reflektif, kanthi kasar kurang saka 500 angstrom lan kecepatan kobong sing relatif cepet.Film sing disiapake dening target silikon nduweni nomer partikel sing kurang.
Target sputtering silikon digunakake kanggo nyimpen film tipis ing bahan adhedhasar silikon.Biasane digunakake ing tampilan, semikonduktor, optik, komunikasi optik lan aplikasi lapisan kaca.Padha uga cocok kanggo etching komponen teknologi dhuwur.Target sputtering silikon tipe N bisa digunakake kanggo macem-macem tujuan.Iki ditrapake kanggo akeh lapangan, kalebu elektronik, sel surya, semikonduktor lan tampilan.
Sasaran sputtering silikon minangka aksesori sputtering sing digunakake kanggo nyimpen bahan ing permukaan.Biasane, kasusun saka atom silikon.Proses sputtering mbutuhake jumlah materi sing tepat, sing bisa dadi tantangan gedhe.Nggunakake peralatan sputtering becik minangka cara mung kanggo nggawe komponen adhedhasar silikon.Wigati dicathet yen target sputtering silikon ora digunakake ing proses sputtering.
Wektu kirim: Oct-24-2022