1. Persiapan nyembur
Penting banget kanggo njaga ruang vakum, utamane sistem sputtering resik.Sembarang turahan kawangun dening lubricating lenga, bledug lan lapisan sadurungé bakal ngumpulake uap banyu lan polutan liyane, kang bakal langsung mengaruhi jurusan vakum lan nambah kamungkinan saka film-mbentuk Gagal.Short circuit utawa target arcing, lumahing film atos lan isi impurity kimia gedhe banget asring disebabake kamar sputtering najis, bedhil sputtering lan target.Kanggo netepi karakteristik komposisi lapisan, perlu kanggo ngresiki lan garing gas sputtering (argon utawa oksigen).Sawise landasan dipasang ing kamar sputtering, udhara kudu diekstrak kanggo nggayuh vakum sing dibutuhake dening proses kasebut.Tutup shielding ing wilayah peteng, tembok growong lan lumahing jejer uga kudu tetep resik.Nalika ngresiki kamar vakum, kita nyengkuyung nggunakake blasting werni kaca kanggo nambani bagian sing bledug, bebarengan karo udara sing dikompress kanggo mbusak sisa-sisa sputtering awal ing saubengé kamar, lan banjur kanthi tenang polish lumahing njaba nganggo sandpaper sing diresapi alumina.Sawise polishing kertas gauze, di resiki nganggo alkohol, aseton lan banyu deionisasi.Bebarengan, nyengkuyung panggunaan pembersih vakum industri kanggo reresik tambahan.Target sing diprodhuksi dening logam Gaozhan dikemas ing kantong plastik sing disegel vakum,
Dibangun ing agen tahan kelembapan.Nalika nggunakake target, aja ndemek target langsung nganggo tangan sampeyan.Cathetan: nalika nggunakake target, gunakake sarung tangan pangopènan sing resik lan tanpa serat.Aja ndemek target langsung nganggo tangan
2. Target cleaning
Tujuan reresik target yaiku mbusak bledug utawa rereget sing bisa ana ing permukaan target.
Target logam bisa di resiki ing papat langkah,
Langkah pisanan yaiku ngresiki nganggo kain alus sing bebas lint sing direndhem ing aseton;
Langkah kapindho padha karo langkah pisanan, ngresiki nganggo alkohol;
Langkah 3: ngresiki nganggo banyu deionisasi.Sawise wisuh nganggo banyu deionisasi, lebokake target ing oven lan garing ing suhu 100 ℃ suwene 30 menit.
Reresik target oksida lan keramik kudu ditindakake kanthi "kain tanpa serat".
Langkah kaping papat yaiku kanggo ngumbah target karo argon kanthi tekanan dhuwur lan gas banyu sing kurang sawise njabut area sing mbledug, supaya bisa mbusak kabeh partikel impurity sing bisa mbentuk busur ing sistem sputtering.
3. Piranti target
Ing proses instalasi target, Z pancegahan penting kanggo mesthekake sambungan konduksi termal apik antarane target lan tembok cooling saka bedhil sputtering.Yen warpage saka cooling stave abot utawa warpage saka piring mburi abot, piranti target bakal retak utawa bend, lan konduktivitas termal saka target mburi kanggo target bakal banget kena pengaruh, asil ing Gagal boros panas. ing proses sputtering, lan target bakal kokain utawa kantun
Kanggo njamin konduktivitas termal, lapisan kertas grafit bisa dilapisi ing antarane tembok pendinginan katoda lan target.Mangga mbayar manungsa waé kanggo kasebut kanthi teliti, mriksa lan nggawe cetha flatness saka tembok cooling saka bedhil sputtering digunakake kanggo mesthekake yen O-ring tansah ing Panggonan.
Wiwit karesikan banyu adhem sing digunakake lan bledug sing bisa kedadeyan sajrone operasi peralatan kasebut bakal disimpen ing tangki banyu pendinginan katoda, perlu kanggo mriksa lan ngresiki tangki banyu pendinginan katoda nalika nginstal target kanggo njamin lancar. sirkulasi banyu sing adhem lan inlet lan outlet ora bakal diblokir.
Sawetara katoda direncanakake duwe ruang cilik kanthi anoda, mula nalika nginstal target, kudu mesthekake yen ora ana sentuhan utawa konduktor ing antarane katoda lan anoda, yen ora ana sirkuit cendhak.
Waca Manual operator peralatan kanggo informasi babagan cara ngoperasikake target kanthi bener.Yen ora ana informasi kasebut ing manual pangguna, coba instal piranti kasebut miturut saran sing cocog sing diwenehake dening logam Gaozhan.Nalika ngencengi piranti target, kencengake siji bolt kanthi tangan, banjur kencengake bolt liyane ing diagonal kanthi tangan.Baleni iki nganti kabeh bolts ing piranti wis tightened, banjur kenceng karo soko.
4. Inspeksi short circuit lan tightness
Sawise completion saka piranti target, iku dibutuhake kanggo mriksa short circuit lan tightness saka kabèh cathode,
Disaranake kanggo nemtokake manawa ana sirkuit cendhak ing katoda kanthi nggunakake meter resistensi
Diskriminasi baris.Sawise ngonfirmasi manawa ora ana sirkuit cendhak ing katoda, deteksi bocor bisa ditindakake, lan banyu bisa dilebokake ing katoda kanggo ngonfirmasi manawa ana bocor banyu.
5. Target pre sputtering
Target pre sputtering ndhukung sputtering argon murni, sing bisa ngresiki permukaan target.Nalika target wis sputtered, dianjurake kanggo alon-alon nambah daya sputtering, lan tingkat Tambah daya saka target Keramik punika 1.5WH / cm2.Kacepetan pre sputtering target logam bisa luwih dhuwur tinimbang blok target keramik, lan tingkat kenaikan daya sing cukup yaiku 1.5WH / cm2.
Ing proses pre sputtering, kita kudu mriksa arcing target.Wektu sadurunge sputtering umume kira-kira 10 menit.Yen ora ana fenomena arcing, terus nambah daya sputtering
Kanggo daya disetel.Miturut pengalaman, ditrima Z daya sputtering dhuwur saka target logam punika
25watts / cm2, 10watts / cm2 kanggo target keramik.Mangga deleng basis setelan lan pengalaman tekanan ruang vakum sajrone sputtering ing manual operasi sistem pangguna.Umumé, kudu mesthekake yen suhu banyu ing stopkontak banyu cooling kudu luwih murah tinimbang 35 ℃, nanging Z penting kanggo mesthekake yen sistem sirkulasi banyu cooling bisa èfèktif.
Sirkulasi banyu supercooling kanthi cepet njupuk panas, sing dadi jaminan penting kanggo njamin sputtering terus-terusan kanthi daya dhuwur.Kanggo target logam, umume dianjurake supaya aliran banyu sing adhem
tekanan banyu 20lpm kira-kira 5gmp;Kanggo target keramik, umume dianjurake supaya aliran banyu 30lpm lan tekanan banyu udakara 9gmp.
6. Target pangopènan
Kanggo nyegah sirkuit cendhak lan arcing sing disebabake dening rongga najis ing proses sputtering, perlu mbusak sputter sing akumulasi ing tengah lan loro-lorone trek sputtering kanthi bertahap,
Iki uga mbantu pangguna kanggo terus-terusan sputter ing z Kapadhetan daya dhuwur
7. Target panyimpenan
Target sing diwenehake dening logam Gaozhan dikemas ing kantong plastik vakum lapisan ganda.Kita nyengkuyung pangguna supaya target, apa logam utawa keramik, ing kemasan vakum.Utamane, target ikatan kudu disimpen ing kahanan vakum kanggo nyegah oksidasi lapisan ikatan supaya ora mengaruhi kualitas ikatan.Kanthi gati kanggo kemasan target logam, kita nyengkuyung manawa Z kudu dikemas ing kantong plastik sing resik
Wektu kirim: Mei-13-2022