AlTi alloy Sputtering Target High Purity
Aluminium Titanium Kab
Kebutuhan kualitas target kanggo lapisan sputter luwih dhuwur tinimbang industri bahan tradisional.Mikrostruktur seragam target langsung mengaruhi kinerja sputtering.Kita duwe sistem manajemen kualitas sing wis rampung lan kita milih bahan mentah sing kemurnian dhuwur lan nyampur kanthi tliti kanggo njamin homogeneitas.Aluminium Titanium alloy sputtering target diprodhuksi kanthi cara vakum panas mencet.
Target sputtering Aluminium Titanium kita bisa nyedhiyakake lapisan nitrida tahan oksidasi sing luar biasa, Titanium aluminium nitride (TiAlN).TiAlN minangka mainstream saiki minangka film kanggo alat nglereni, bagean geser lan lapisan tribo.Wis atose dhuwur, kateguhan, kinerja tahan nyandhang lan suhu oksidasi.
Target AlTi khas kita lan sifate
| Ti-75Al ing% | Ti-70Al ing% | Ti-67Al ing% | Ti-60Al ing% | Ti-50Al ing% | Ti-30Al ing% | Ti-20Al ing% | Ti-14Al ing% | |
| Kemurnian (%) | 99.7 | 99.7 | 99.7 | 99.7 | 99.8/99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 |
| Kapadhetan(g/cm3） | 3.1 | 3.2 | 3.3 | 3.4 | 3.63/3.85 | 3.97 | 4.25 | 4.3 |
| Gudan Ukuran(µm) | 100 | 100 | 100 | 100 | 100/- | - | - | - |
| Proses | HIP | HIP | HIP | HIP | HIP/VAR | VAR | VAR | VAR |
Bahan Khusus Sugih spesialisasi ing Pabrik Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Aluminium Titanium miturut spesifikasi Pelanggan.Kita bisa nyedhiyakake macem-macem bentuk geometris: tabung, katoda busur, planar utawa digawe khusus, lan sawetara proporsi Aluminium.Produk kita nduweni sifat mekanik sing apik, struktur mikro homogen, permukaan sing polesan tanpa pamisahan, pori utawa retak.Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.
Kategori produk
-
AlMg Alloy Sputtering Target Kemurnian Tinggi Tipis F...
-
AlNb Alloy Sputtering Target Kemurnian Tinggi Tipis F...
-
AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Tipis F...
-
AlNi Alloy Sputtering Target Kemurnian Tinggi Tipis F...
-
AlSnCu Sputtering Target High Purity Tipis Film ...
-
CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Tipis F...
