Sugeng rawuh ing situs web kita!

MoNb Sputtering Target High Kemurnian lancip Film PVD Coating Custom Made

Molybdenum Niobium

Katrangan singkat:

Babagan

Paduan Sputtering Target

Formula Kimia

MoNb

Komposisi

Molybdenum Niobium

Kemurnian

99,9%, 99,95%, 99,99%

wangun

Piring, Target Kolom, katoda busur, Digawe khusus

Proses Produksi

PM

Ukuran kasedhiya

L≤200mm, W≤200mm


Detail Produk

Tag produk

Sasaran Molybdenum Niobium disiapake kanthi nyampur bubuk Molybdenum lan Niobium banjur dipadatkan nganti lengkap.Bahan sing dipadhetke kanthi opsional disinter lan banjur dibentuk dadi bentuk target sing dikarepake.
Molybdenum Niobium sputtering target nduweni titik leleh dhuwur, kekuatan, lan kateguhan ing suhu munggah pangkat.Uga nuduhake panas banget lan konduktivitas listrik karo koefisien kurang saka expansion termal.Nambahake Niobium menyang Molybdenum nambah piksel tampilan kristal cair paling ora kaping telu.

Target sputtering Molybdenum Niobium minangka bahan kritis kanggo Tampilan Panel Datar (FPD) lan digunakake kanthi jumlah akeh ing campuran molibdenum-niobium kanggo tampilan kristal cair cuboid sumber Cairan Crystal Display (LCD), tampilan emisi lapangan, tampilan pemancar cahya organik, plasma panel tampilan, tampilan cathodoluminescence, tampilan neon vakum, TFT tampilan fleksibel lan layar tutul, etc.. Electron Beam penguapan pangolahan tampilan panel bisa nggawe simpenan Niobium ing mburi ndhuwur emitor, kang bakal banget mbiyantu ngembangaken layar gedhe karo definisi dhuwur.

Bahan Khusus Sugih spesialisasi ing Pabrik Target Sputtering lan bisa ngasilake Bahan Sputtering Molybdenum Niobium miturut spesifikasi Pelanggan.Kanggo informasi luwih lengkap, hubungi kita.


  • Sadurunge:
  • Sabanjure: