Grosir NiFe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Produsen lan Supplier |sugih

Nikel Besi

NiFe Sputtering Target High Purity Tipis Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Katrangan singkat:

Babagan	Paduan Sputtering Target
Formula Kimia	NiFe
Komposisi	Nikel Besi
Kemurnian	99,9%, 99,95%, 99,99%
wangun	Piring, Target Kolom, katoda busur, Digawe khusus
Proses Produksi	Leleh vakum, PM
Ukuran kasedhiya	L≤2000mm, W≤300mm

Kirimi email kanggo kita

Detail Produk

Tag produk

Video

Nikel Iron Sputtering Target Description

Nikel Iron Sputtering Target diprodhuksi liwat Vacuum Leleh, Casting lan PM.Nduwe permeabilitas magnetik sing dhuwur banget ing kekuwatan lapangan sing sithik.
Target wesi nikel (Nikel>30 wt%) nuduhake struktur kubik sing dipusatake ing rai ing suhu kamar.Nikel target wesi konvensional duwe komposisi luwih saka 36% saka Nikel, lan bisa dipérang dadi papat kategori: 35% ~ 40% Ni-Fe, 45% ~ 50% Ni-Fe, 50% ~ 65% Ni-Fe lan 70% ～ 81% Ni-Fe.Saben bisa digawe dadi bahan kanthi puteran histeresis magnetik bunder, persegi panjang utawa bidang.
Target Sputtering Nikel Iron (Ni-Fe) digunakake ing macem-macem aplikasi, kayata media panyimpenan magnetik lan piranti pelindung EMI.

Nikel Iron Sputtering Target Packaging

Target sputter Nikel Wesi kita kanthi jelas diwenehi tandha lan label eksternal kanggo mesthekake identifikasi lan kontrol kualitas sing efisien.Ati-ati banget kanggo ngindhari karusakan sing bisa disebabake sajrone panyimpenan utawa transportasi.

Entuk Kontak

Target sputtering Nikel Iron RSM yaiku kemurnian lan seragam sing dhuwur banget.Padha kasedhiya ing macem-macem formulir, kemurnian, ukuran, lan rega.Kita bisa nyedhiyakake kemurnian 99,99% lan komposisi khas: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
We spesialis ing prodhuksi bahan lapisan film tipis kemurnian dhuwur kanthi kinerja banget uga Kapadhetan paling dhuwur lan ukuran gandum rata-rata paling cilik kanggo digunakake ing lapisan cetakan, dekorasi, bagean mobil, kaca low-E, sirkuit terpadu semi-konduktor, film tipis. resistance, tampilan grafis, aerospace, rekaman Magnetik, layar tutul, film tipis baterei solar lan aplikasi deposition uap fisik (PVD) liyane.Mangga ngirim priksaan kanggo rega saiki ing sputtering target lan bahan deposisi liyane ora kadhaptar.